什么是气相二氧化硅？
气相二氧化硅是通过在氢氧火焰中硅化合物的水解过程中产生的一种纳米结构的二氧化硅。它具有高比表面积，粒径范围在1到100纳米之间。
气相二氧化硅
气相二氧化硅，也称为热解二氧化硅，是一种纳米结构的二氧化硅（SiO2），是通过在氢氧火焰中硅化合物的水解过程产生的。气相二氧化硅颗粒具有三维网络结构，并且它们相互连接形成具有高比表面积的聚集体。气相二氧化硅的颗粒大小通常在1到100纳米之间，使其能够悬浮在液体中或附着在固体表面上。
气相二氧化硅的应用
气相二氧化硅广泛应用于各个行业，包括涂料、胶粘剂和密封剂等，作为流变性改性剂和增稠剂。它有助于控制粘度，改善抗垂流性，并增强这些配方的稳定性。
由于其高比表面积和多孔性，气相二氧化硅被用作橡胶和弹性体应用中的增强填料。它改善了机械性能，如抗拉强度、抗撕裂性和抗磨损性。
在制药工业中，气相二氧化硅被用作固体剂型（如片剂和胶囊）中的药用辅料。它有助于改善粉末流动性、压缩性和活性药物成分的溶解速度。
气相二氧化硅被用于硅橡胶和硅密封剂的生产。它增强了这些材料的机械强度、热稳定性和电气绝缘性能。
气相二氧化硅被用于制造胶粘剂和密封剂，以提高粘接强度、对不同基材的附着性和对湿度和温度等环境因素的抵抗性。
气相二氧化硅的结构
气相二氧化硅的结构由纳米级颗粒组成，形成三维网络。这些颗粒高度多孔，具有大比表面积。以下是气相二氧化硅结构的描述：
气相二氧化硅的三维网络
Item | Index |
Surface Area (m2/g) | 185-225 |
Ignition loss % | 2.5 |
Silicone oxide % | 99.8 |
PH Value in Aqueous Dispersion | 3.7~4.5 |
Tap density(g/dm3) | 30~60 |
气相二氧化硅的生产过程
- 气相二氧化硅的生产过程涉及在火焰中水解硅化合物以产生纳米结构的二氧化硅颗粒。以下是气相二氧化硅生产过程的一般描述：
- 原料制备：该过程从制备原料开始，通常包括硅化合物，如四氯化硅（SiCl4）或硅烷氧化物。这些化合物通常来自石英或硅金属等富含二氧化硅的材料。
- 火焰水解：将原料引入由氢气和氧气组成的高温火焰中。硅化合物在火焰中与水蒸氣（H2O）发生水解反应，形成二氧化硅（SiO2）颗粒。
- 核化和生长：在火焰中，水解的硅化合物经历核化，即形成小的初级颗粒。这些初级颗粒通过附加的二氧化硅分子的凝结而生长。
聚集和颗粒形成：随着颗粒的继续生长，它们会聚集形成更大的结构，称为聚集体。聚集是由范德华力和其他颗粒间相互作用引起的。聚集体由相互连接的初级颗粒组成，形成多孔的网络结构。
收集和过滤：冷却的气相二氧化硅颗粒通过过滤系统收集。这通常涉及将颗粒通过一系列过滤器或旋风分离，将较大的聚集体从气流中分离并收集为粉末。
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